多晶硅片清洗高濃度臭氧水機

技術參數

型號	MTS-CYS-1T	MTS-CYS-2T	MTS-CYS-4T	MTS-CYS-6T	MTS-CYS-10T
臭氧水濃度(mg/L)	3-20	3-20	3-20	3-20	3-20
額定輸出水量（m3/h）	1	2	4	6	10
臭氧水濃度(mg/L)	20-50	20-50	20-50	20-50	20-50
工作電壓（V）	220	220	380	220	220
電源頻率（Hz）	50	50	50	50	50
最大功率（KW）	1.2	1.5	2.6	3.6	4.5
環境相對濕度 (%)	≤80	≤80	≤80	≤80	≤80
環境溫度 (℃)	5-40	5-40	5-40	5-40	5-40
環境氣壓 (KPa)	86-106	86-106	86-106	86-106	86-106
額定輸出水壓（MPa）	0.3	0.3	0.4	0.4	0.4
進水壓力 (MPa)	0.15	0.15	0.15	0.15	0.15
機器凈重 (Kg)	100	120	150	200	260

一、產品特點：

1、臭氧水濃度高達50PPM（mg/L）

2.采用多年研發高濃度板式臭氧放電系統，臭氧出口濃度高達300mg/L；

3、產品內部采用獨創微納米高效臭氧混合系統，直接與水混合出高濃度臭氧水

4、高效混合泵使臭氧利用率高達80% 以上；

5、全自動智能控制，按鍵即可控制機器工作，產生高濃度臭氧水，快捷安全      

6、管路采用衛生級不銹鋼管件，耐壓力、耐腐蝕

7、不銹鋼外殼， 易擦洗， 衛生防腐。 耐臭氧。

8、體積小，噪音低，產量穩定。

 

二：多晶硅片清洗試驗數據：

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

通過本方法將臭氧水應用于太陽能電池用硅晶片的制作工藝中，清潔工藝中去除了94%以上的無機物(微入口者)，殘留有機物進一步去除了45%，從而確認了臭氧清潔工藝的適用性。但是，雖然對產品質量沒有太大影響，但由于外觀原因影響產品價格的硬脂酸污染的去除實驗中，長期擱置的部分多晶硅晶片也沒有被去除，但研究結果表明，在硅錠的硅片工藝中立即應用臭氧水清洗工藝，可以更有效地去除硬脂酸污染。

 

 

三、高濃度臭氧水體機設備原理 

采用先進的物理制氧原理，通過制氧塔的變壓吸附作用，在常溫常壓下直接將空氣中的氧和氮分離，取得高純度的氧氣；然后采用電暈放電法獲取臭氧，在常壓下使含氧氣體在交變高壓電場作用下產生電暈放電生成臭氧；通過氣液混合系統進行水和臭氧的混合后，得到一定濃度的臭氧水.

 

 

四、內置核心部件介紹

（一）內置制氧機

內置臭氧專用制氧機采用納米分子篩技術，利用空氣作為原料，通過分子塔生成高濃度氧氣．氧氣濃度在 93%以上。 采用了適合臭氧環境的耐腐蝕材料。增加了多級除濕裝置，適合臭氧高濕環境。設備發熱件和壓縮空氣經過深度冷卻，設備溫升低，適合連續穩定運行。整個設備耐 腐蝕，耐潮濕，溫升低，可連續 24小時穩定運行。

內置制氧機特點

① .耐腐蝕，適合臭氧環境。 和普通制氧機、醫用制氧機相比，采用了很多耐臭氧腐蝕材料，能在臭氧環境下長期使用。

② .耐潮濕，適合潮濕環境。 和普通制氧機相比，采用了三級除濕措施。包括第一級深冷自動排水，第二級除濕分子篩，第三級制氧分子篩除濕。前兩級除濕保護了制氧分子篩，延長了制氧分子篩壽命，適合水處理環境潮濕場合。

③ .溫升低，適合連續穩定運行。 采用了空氣深冷技術和深度散熱技術，設備溫升和傳統制氧機相比，由傳統制氧機的環境溫升 15-20℃大幅降低到3-5℃。

④ .內置無油壓縮機，免維護。 制氧機內部采用了免維護的無油壓縮機。不需要經常維護。

⑤ .以空氣為原料，制氧成本低。 制氧機以空氣為原料，物理方法制氧，日常沒有消耗材料。制氧成本基本上就是電費和定期維護費，和氧氣瓶相比，氧氣成本非常低。

⑥ . 氧氣濃度高，沒有雜質和水氣： 氧氣濃度可達 93%以上。制氧機內置過濾材料，可過濾空氣中的雜質和水氣。